XEI科学公司热门EVACTRON^®de-ContadoraTM等离子清除系统电子显像机和其他吸尘机,高兴地宣布与通用电气全球研究中心协作出版论文使用现场等离子清洗

论文发布于Vacum科技杂志即使是极低层污染常隐藏或曲解研究者想研究的表面分析纽约通用电气全球研究中心分析的许多样本就是如此。尝试通过飞行二次离子质测法研究“接收式”样本发现来自处理、处理和/或特定接触的沾染特征ToF-SIMS提供高表度特性,以便碳氢化合物和/或硅酮污染可能实际上掩蔽感兴趣的表面特征,这可能抑制或损及精确分析。远程等离子体减轻油气污染技术已建立,本文首次证明二甲基硅酸

论文中写道:“F-SIMS分析前现场等离子清洗样本去除碳氢化合物和/或多二二二硅^一号主作者文森特Smentkowski报告使用Evactron偏向于喷射清洗,因为后者常常改变分析表面化学样本在分析前立即清理到商业上可获取 ToF-SIMS工具的负载锁中实验观察显示Evactron系统不产生离子束效果(喷射)甚至连长接触,从而显示从材料清除和离子喷射中最小化文物EvactronRF等离子净化器设计产生这一优势,该净化器最小化离子编组和下游喷泡,允许激进物种支配清洗过程

有意思的是,使用环境空气生成等离子体导致表层氧化,而这往往通过ToF-SIMS敏感度提高而受益,多元素离子生成增强论文展示了利用等离子清洗的潜力,不仅用于基础分析,而且也用于生产环境

XEI使用电子显微镜、FIBs和其他真空采样室等仪表处理多环境污染问题

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